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机构	日期	题名	作者
義守大學	2012-05	Electrical Improvement of MIS Capacitor with HfAlOx Gate Dielectrics Treated by Dual Plasma Treatment	I-Chung Deng;Kow-Ming Chang;Ting-Chia Chang;Po-Chun Chang;Bo-Wen Huang;Chien-Hung Wu
義守大學	2012-05	Improvement on Interface Quality and Reliability Properties of HfAlOx MIS Capacitor with Dual Plasma Treatment	Kow-Ming Chang;Ting-Chia Chang;Po-Chun Chang;Bo-Wen Huang;Chien-Hung Wu;I-Chung Deng

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