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機構 日期 題名 作者
中原大學 2000-11-21 Method of forming a cob dram by using self-aligned node and bit line contact plug Hung-Yi Luo;Erik S. Jeng;Yue-Feng Chen
中原大學 2000-10-31 Method for eliminating CMP induced microscratches Fu-Liang Yang;Bih-Tiao Lin;Tzu-Shih Yen;Bi-Ling Chen;Erik S. Jeng
中原大學 2000-10-24 Method for fabricating capacitor-over-bit-line dynamic random access memory (DRAM) using self-aligned contact etching technology Erik S. Jeng;Chun-Yao Chen;Ing-Ruey Liaw;Janmye Sung
中原大學 2000-10-24 Method to fabricate capacitor structures with very narrow features using silyated photoresist Tzu-Shih Yen;Erik S. Jeng
中原大學 2000-09-26 Method for fabricating ultra-small interconnections using simplified patterns and sidewall contact plugs Erik S. Jeng;Tzu-Shih Yen;Hung-Yi Luo
中原大學 2000-08-15 Method of forming a contact hole in a semiconductor device Erik S. Jeng;Bi-Ling Chen;Hao-Chieh Liu
中原大學 2000-06-27 Method for fabricating interconnection and capacitors of a DRAM using a simple geometry active area, self-aligned etching, and polysilicon plugs Erik S. Jeng
中原大學 2000-06-27 Method for forming multi-level contacts using a H-containing fluorocarbon chemistry Bi-Ling Chen;Erik S. Jeng;Hao-Chieh Liu
中原大學 2000-06-13 Method for forming multi-level contacts Hao-Chieh Liu;Erik S. Jeng;Bi-Ling Chen;Wan-Yih Lien
中原大學 2000-06-06 Method for simultaneously fabricating a DRAM capacitor and metal interconnections Fu-Liang Yang;Erik S. Jeng;Bih-Tiao Lin;I-Ping Lee

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