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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2012-12	Bipolar Resistive RAM Characteristics Induced by Nickel Incorporated Into Silicon Oxide Dielectrics for IC Applications	Tsai, Tsung-Ming; Chang, Kuan-Chang; Chang, Ting-Chang; Syu, Yong-En; Chuang, Siang-Lan; Chang, Geng-Wei; Liu, Guan-Ru; Chen, Min-Chen; Huang, Hui-Chun; Liu, Shih-Kun; Tai, Ya-Hsiang; Gan, Der-Shin; Yang, Ya-Liang; Young, Tai-Fa; Tseng, Bae-Heng; Chen, Kai-Huang; Tsai, Ming-Jinn; Ye, Cong; Wang, Hao; Sze, Simon M.

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