臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
國立臺灣海洋大學	2000-05	An a-SiGeH Phototransistor Integrated a Pd Film on Glass Substrate for Hydrogen Monitoring	W.T. Hsieh; Y.K. Fang; W.J. Lee; K.H. Wu; J.J. Ho; K.H. Chen; S.Y. Huang
國立臺灣海洋大學	2000-01-06	Improvement of beta-SiC/Si pn Diode High Temperature Characteristics with Porous Silicon Layer	W.T. Hsieh; Y.K. Fang; W.J. Lee; C.W. Ho; K.H. Wu; J.J. Ho; J.D. Hwang
南台科技大學	2000-01	Improvement of β-SiC / Si pn diode high temperature characteristics with porous silicon laye	W. T. Hsieh; Y. K. Fang; W. J Lee; C. W. Ho; K. H. Wu; J. J. Ho; J. D. Hwang;謝文哲
南台科技大學	2000	To suppress dark current of high temperature β-SiC/Sioptoelectronic devices with porous silicon substrate	吳坤憲; W. T. Hsieh; Y. K. Fang; W. J. Lee; C. W. Ho; K. H. Wu
南台科技大學	2000	Improvement of β-SiC/Si pn diode high temperature characteristics with porous silicon layer	吳坤憲; W. T. Hsieh; Y. K. Fang; W. J. Lee; C. W. Ho; K. H. Wu; J. J. Ho; J. D. Hwang
南台科技大學	2000	To suppress dark current of high temperature β-SiC/Sioptoelectronic devices with porous silicon substrate	吳坤憲; W. T. Hsieh; Y. K. Fang; K. H. Wu; W. J. lee; J. J. Ho; C. W. Ho
南台科技大學	1999-12	The Dynamic Response Analysis of a Pyroelectric Thin-Film Infrared Sensor with Thermal Isolation Improvement Structure	J.J. Ho; Y. K. Fang; W. J. Lee; F. Y. Chen; W. T. Hsieh; S. F. Ting; K. H. Lee; M. S. Ju; S. B. Huang; K. H. Wu; C. Y. Chen;謝文哲;林福林
國立臺灣海洋大學	1999-12	The Dynamic Response Analysis of a Pyroelectric Thin-film Infrared Sensor with Thermal Isolation Improvement Structure	Jyh-Jier Ho; Y.K. Fang; W.J. Lee; F.Y. Chen; W.T. Hsieh; S.F. Ting; M.S. Ju; M.S. Ju; S.B. Huang; K.H. Wu; C.Y. Chen
南台科技大學	1999-10	Analysis of Substrate Effects on the Response of Pyroelectric Thin-Film Infrared Sensors	J. J. Ho; Y. K. Fang; W. J. Lee; F. Y. Chen; W. T. Hsieh; S. F. Ting; K. H. Lee; M. C. Hsieh; C. P. Chang; K. H. Wu;謝文哲;林福林
南台科技大學	1999-08	A Novel SiC/Si Heterojunction Diode with High-Temperature Bidirectional N-Shaped Negative-Differential-Resistances for High-Temperature Applications	K.H. Wu; Y. K. Fang; J.J. Ho; W.T. Hsieh; T.J. Chen;謝文哲;吳坤憲

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