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机构 日期 题名 作者
國立中山大學 2005 Enhancement of Deposition Rate of Titanium Silicon Oxide Films on Silicon Using Hexafluorotitanic Acid by Nitric Acid M.K. Lee; K.W. Tung; C.M. Yu
國立中山大學 2003 High Quality Fluorinated Silicon Dioxide Films Prepared by Temperature-Difference-Based Liquid-Phase Deposition with Ammonium Hydroxide Incorporation M.K. Lee; W.H. Shieh; C.M. Shih; S.Y. Lin; K.W. Tung
國立中山大學 2003 High Quality Nitrogen Doped Fluorinated Silicon Oxide Films Prepared by Temperature-Difference-Based Liquid-Phase Deposition M.K. Lee; W.H. Shieh; C.M. Shih; K.W. Tung
國立中山大學 2002-12 Nitrogen Incorporated SiOF Film by Temperature-Difference Based Liquid-Phase Deposition M.K. Lee;C.M. Shih;W.H. Shieh;K.W. Tung
國立中山大學 2002 Deposition of Barium Titanate Films on Silicon by Barium Fluotitanate Powder M.K. Lee; K.W. Tung; C.C. Cheng; H.C. Liao; C.M. Shih
國立中山大學 2001-11 Liquid Phase Deposition of BaTiO3 Thin Film on Silicon Using Hexafluorotitanic Acid and Control Film Thickness by Deposition Temperature M.K. Lee;K.W. Tung;C.C. Cheng

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