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机构	日期	题名	作者
中原大學	2010-04	Gate Oxide Weat out Using Novel Polysilazane-base Inorganic as Nano-scaling Shallow Trench Filling	Ching Yuan. Ho;Kai-Yao.Shih ; jr Hau He,
中原大學	2009-08	Investigation of Gate Oxide Wear out Using Polysilazane-base Inorganic as Shallow Trench Filling	Ching-Yuan. Ho; Kai-Yao. Shih; Jr Hau He

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