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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:44:46Z	Effects of an interposed Mo layer on the interfacial reactions of Ti/Si0.76Ge0.24 by rapid thermal annealing and pulsed laser annealing	Huang, JC; Luo, JS; Lin, WT; Chang, CY; Shih, PS
國立交通大學	2014-12-08T15:01:52Z	Interfacial reactions of the Co/Si1-xGex system	Luo, JS; Lin, WT; Chang, CY; Tsai, WC; Wang, SJ
國立交通大學	2014-12-08T15:01:24Z	Pulsed KrF laser annealing of Ni/Si0.76Ge0.24 films	Luo, JS; Lin, WT; Chang, CY; Tsai, WC

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