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機構 日期 題名 作者
中原大學 2001-4 Modeling Study on Plasma Reforming of Greenhouse Gases in a Silent Discharge T. C. Wei;H. F. Huang;C. C. Wu;
中原大學 2001-11 Two-dimensional Continuum Model of Inductively Coupled Ar/Cl2/BCl3 Plasmas with Comparisons to Experiments T. C. Wei;C. C. Yang;
中原大學 2001 Oxygen/Nitrogen Separation of TPX Membranes Modified by Acetylene/Nitrogen Plasmas T.-C. Wei;C.Y. Shih;R.C. Ruaan;J.Y. Lai;
中原大學 2000 Etching Characteristics of Organic Low-k Dielectrics in the Helicon-wave Plasma Etcher for 0.15 μm Damascene Architecture. J.M. Shieh;T.C. Wei;C.H. Liu;S.C. Suen;B.T. Dai
中原大學 2000 The Study on Thermal Stability of Fluorinated Amorphous Carbon Film (a-C:F) Deposited by PECVD. S.C. Suen;J.M. Shieh;M.S. Tsai;B.T. Dai;C.H. Liu;T.C. Wei;
中原大學 2000 Direct Conversion of Methane in Microwave Plasmas. T.C. Wei;S.F. Huang;C.B. Lee;
中原大學 1999 Sidenall-Fence-Free Pt Etching with Ar/O2 Mixed Gas Plasma T.C.Wei;M.C.Chiang;F.M.Pan;H.C.CHIEN;J.Sliu;H.K.Chiu;
中原大學 1999 Reactive Ion Etching of Ir Films with a TiN Mask in Ar/O2/BCl3 Helicon Wave Plasma T.C.Wei;M.C.Chiang;F.M.Pan;T.P.Liu;B.T.Dai;H.C.Chien;

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